金属热处理

作者：王帅康, 唐宾, 鲍明东, 展尚松, 王铎, 易晨曦

单位：1.太原理工大学 材料科学与工程学院, 山西 太原 030024; ；2.宁波工程学院 材料与化学工程学院, 浙江 宁波 315211; ；3.长安大学 材料科学与工程学院, 陕西 西安 710061

关键词：磁控溅射,铜靶,靶晶粒度,溅射性能,沉积性能

基金：宁波市“科技创新2025”重大专项(2018B10066)

将平均晶粒度分别为30、70和150 μm的3块6N高纯纯铜方靶放在同一溅射系统中进行溅射,并检测和观察溅射后I-V特征曲线、质量损失以及所镀薄膜的表面形貌、厚度以及X射线衍射谱。结果表明,晶粒度作为靶材的一个重要参数指标,会影响靶材溅射后表面形貌和I-V特性曲线。当所镀薄膜较厚时,靶晶粒度并不会对靶的质量损失以及薄膜结晶情况产生太大的影响,但会对薄膜沉积率产生较大影响。

来源：2022年第11期

《金属热处理》期刊编辑部

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