金属热处理

作者：徐国进, 韩思聪, 朱孜毅, 罗俊锋, 何金江, 陈畅, 陈桂

单位：有研亿金新材料有限公司 北京市高纯金属溅射靶材工程研究中心, 北京 102200

关键词：高纯钴靶,微观组织,磁导率,铁磁性

基金：北京市科学技术委员会资助项目(Z201100004320015)

对99.999%高纯钴进行350、450和550 ℃的热处理,利用光学显微镜、电子背散射衍射技术及振动样品磁强计分析了热处理后高纯钴的微观组织、织构及磁性能。结果表明,热处理温度对高纯钴的相含量、晶界含量及晶粒织构有明显的影响,350 ℃热处理后的组织全部为密排六方相(HCP相),具有较强的织构;在相变温度427 ℃以上的450和550 ℃热处理后的组织为HCP相和FCC相两相共存,小角度晶界占比急剧降低,大角度晶界占比大幅提升,并产生了两种特殊晶界:相变孪晶界70.5°/<1120>和退火孪晶界(∑3晶界)60°/<111>。高纯钴经350 ℃热处理后的组织极密度最大,[0001]织构含量最大,且相对磁导率最低,为6.1。当高纯钴在相变温度以上热处理时,磁导率大幅升高。

来源：2024年第4期

《金属热处理》期刊编辑部

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